IT之家6月29日消息 在 2020 年 SEMICON CHINA 展览会上，北方华创正式发布了 NMC612G 12 英寸金属刻蚀机。官方介绍，该设备具有优秀的刻蚀均匀性调节能力与良好的颗粒管控能力，可满足集成电路、功率半导体、硅基微显示等领域的金属刻蚀需求。

NMC612G 12 英寸金属刻蚀机是电感耦合高密度等离子体干法刻蚀机，具有多种均匀性控制手段，如电流分布控制技术、气体比例控制技术、静电卡盘温控技术等，为客户提供了多种均匀性调节选择，拓宽了工艺空间。其中，静电卡盘及传输系统不但适用于常规硅片的传输，也适用于不同领域的玻璃片、SOG 片等晶圆的传输及吸附，可多元化满足各领域多种需求。此外，针对刻蚀后残留气体导致的金属腐蚀问题，该设备采用微波去胶技术，利用 O2 产生等离子体，可以较高的速率实现不同金属刻蚀后 PR 掩膜的去除，并保证金属长期存放过程中不被腐蚀。

IT之家了解到，目前 NMC612G 金属刻蚀机已经成功进入集成电路、功率半导体、硅基微显示等领域的多家生产线，其良好的工艺性能和更低的拥有成本，正在助力客户大规模量产。

扩展阅读：

《大国重器之国产刻蚀机：中国芯片燎原火》